990,5% Wysokiej czystości PSA Generator tlenu do produkcji półprzewodników

Generator tlenu PSA(Generator tlenu o adsorpcji ciśnieniowejNa podstawie technologii wysokiej precyzji adsorpcji ciśnienia (PSA)osiąga głębokie oczyszczanie za pomocą dwuwarstwowych sitow molekularnych (zwykłe sitowki molekularne + sitowki molekularne o wysokiej czystości) w celu wytworzenia tlenu o wysokiej czystości o stężeniu powyżej 990,5%.

Ma podstawowe zalety, takie jak stabilna czystość, wysoka czystość, niezawodna eksploatacja i zerowa emisja zanieczyszczeń,który może spełniać rygorystyczne wymagania dotyczące czystości i czystości tlenu w procesach takich jak utlenianie i osadzenie cienkich folii podczas produkcji półprzewodnikówJako najwyższa konfiguracja dlaPSA czystość tlenu w zakładach, zanieczyszczenia (azot, wilgoć, dwutlenek węgla itp.) w tlenie wytwarzanym przez to urządzenie są kontrolowane poniżej poziomu ppm,unikanie zmniejszenia wydajności chipów spowodowanego niewystarczającą czystością tlenuJest niezbędnym podstawowym sprzętem do dostarczania tlenu do produkcji półprzewodników.

Produkcja półprzewodników stanowi szczyt produkcji precyzyjnej, a procesy chipowe osiągnęły skalę nanometrową (5nm, 3nm).pogorszenie wydajnościTlen jest wykorzystywany głównie w procesach podstawowych, takich jak utlenianie (tworzenie warstw izolacyjnych SiO2) i chemiczne osadzenie par (CVD) w produkcji półprzewodników.Czystość tlenu bezpośrednio wpływa na jednolitość grubości warstwy izolacyjnej, przyczepność folii i wydajność elektryczną chipa.

Zwykły tlen klasy przemysłowej (93% czystości) zawiera zanieczyszczenia, takie jak azot i wilgoć, które mogą powodować wady na powierzchni chipów, co prowadzi do 10-20% zmniejszenia wydajności; natomiast 99.5% tlenu o wysokiej czystości może kontrolować zawartość zanieczyszczeń poniżej poziomu ppm, skutecznie zapobiegając powstawaniu wad i zapewniając stabilność wydajności chipu powyżej 90%.Generator tlenu PSAWykorzystuje się go w procesie odprowadzania zanieczyszczeń, takich jak azot, wilgoć i dwutlenek węgla.PSA czystość tlenu w zakładachDokładność sterowania znacznie przewyższa tradycyjne urządzenia wytwarzające tlen, w pełni spełniając wymagania procesu produkcji półprzewodników.

Ponadto w produkcji półprzewodników wymagane są wyjątkowo wysokie wymagania w zakresie czystości tlenu.5 μm na metr sześcienny powietrza).Generator tlenu PSAjest wyposażony w wydajny system filtracji gazu, który może filtrować maleńkie cząstki tlenu, unikając zanieczyszczenia powierzchni chipów cząstkami i dodatkowo zapewniając jakość chipów.

Przy zakupieGenerator tlenu PSA, przedsiębiorstwa półprzewodnikowe muszą przestrzegać czterech podstawowych zasad: "kwalifikowanej czystości, kompatybilności z czystymi pomieszczeniami, stabilności i niezawodności oraz pełnej kwalifikacji dostawców".

• Z punktu widzenia czystości konieczne jest wybór urządzeń o czystości tlenu ≥ 99,5% i zawartości zanieczyszczeń spełniających wymagania procesu półprzewodnikowego,i wymagać od dostawców dostarczenia sprawozdań z badań osób trzecich (takich jak SGS, ITS)
• W odniesieniu do kompatybilności z pomieszczeniami czystymi konieczne jest potwierdzenie, że czystość gazu wyjściowego urządzenia wynosi ≥ klasa 100 i że obudowa urządzenia spełnia wymagania instalacji w pomieszczeniach czystych.
• Z punktu widzenia stabilności i niezawodności priorytet należy przyznać produktom z czasem ciągłej pracy ≥8000 godzin/rok i gwarancją na podstawowe komponenty ≥3 lata
• Kwalifikacje dostawców mają kluczowe znaczenie.roślina tlenowa na bazie PSAkwalifikacje produkcyjne, certyfikacja systemu zarządzania jakością ISO9001 oraz odpowiednie certyfikacje przemysłu półprzewodnikowego (takie jak certyfikacja SEMI),i wymagać od nich przedstawienia sukcesów w przemyśle półprzewodników

Usługi posprzedażowe muszą spełniać wysokie wymagania przemysłu półprzewodnikowego.i szybkie dostawy części zamiennych w celu zapewnienia długoterminowej stabilnej pracy urządzeń.

Z jego 99,5% wysokiej czystości,Generator tlenu PSAJego precyzyjna kontrola czystości, czysty gaz,i stabilna wydajność operacyjna może zapewnić niezawodne wsparcie dostaw tlenu dla procesów półprzewodnikowych, co czyni go kluczowym sprzętem dla przedsiębiorstw wytwarzających układy chipowe w celu poprawy wydajności i obniżenia kosztów.